Hoogzuivere 3000℃ grafitiseringsoven met gecombineerde chemische en thermische behandeling voor 99,99% koolstofmaterialen

Zeer zuivere koolstofnanobuiszuivering Vacuümgrafietoven met gecombineerde chemische en thermische behandeling

De hoogzuivere zuiveringsoven van koolstofmateriaal combineert thermische grafitisering bij 3000 ℃ met chemische behandelingsmethoden. Deze dubbele aanpak bereikt een zuiverheidsniveau van 99,99% dat vereist is voor toepassingen in de halfgeleider-, ruimtevaart- en geavanceerde elektronica.

Belangrijkste kenmerken

• Gecombineerde grafitisering op hoge temperatuur en chemische zuiveringsmethode
• 99,99% zuiverheidsprestatie geverifieerd door testen door derden
• Werktemperatuur van 3000 ℃ met nauwkeurige sfeercontrole
• Chemisch doseersysteem met geautomatiseerde injectie en uitlaatgasbehandeling
• Batchtraceerbaarheidssysteem met zuiverheidscertificering per productielot

Toepassingen

Van cruciaal belang voor de productie van koolstofnanobuisjes van halfgeleiderkwaliteit, composietmaterialen in de ruimtevaart, componenten van medische apparatuur en geavanceerde elektronica die koolstofnanomaterialen met ultrahoge zuiverheid vereisen.

Technische voordelen

• De dubbele zuiveringsmethode bereikt zuiverheidsniveaus die niet haalbaar zijn met alleen thermische behandeling
• 99,99% zuiverheid geverifieerd door onafhankelijke laboratoriumanalyse
• Geautomatiseerde dosering van chemicaliën zorgt voor een consistente behandeling van batches
• Zuiverheidscertificering per lot biedt gedocumenteerde kwaliteitsborging

After-sales service

1 jaar uitgebreide garantie met technische ondersteuning op afstand. Installatie en training op locatie mogelijk. Reserveonderdelen binnen 7 werkdagen geleverd. Levenslang technisch advies inbegrepen.