logo
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
producten
Huis /

producten

Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders

Productgegevens

Plaats van herkomst: Hunan, China

Merknaam: Jingtan

Betalings- en verzendvoorwaarden

Min. bestelaantal: 1

Prijs: $56,000

Krijg Beste Prijs
Contact nu
Specificaties
Markeren:

375L laadcapaciteit Grafitiseringsoven

,

500x500x1500 Kamergrootte Reinigingsoven

,

±5°C Temperatuur-uniformiteit Vacuümsintermachine

Type:
Inductieovens
Spanning:
380
Gewicht:
5 T
Grenstemperatuur:
2400℃
Verwarmingsmethode:
Verwarming van weerstandsgrafietstaaf
Controlemodel:
Handmatig of automatisch
Werksfeer:
Vacuüm- of inertgasbescherming
Laadcapaciteit:
375L
Kamergrootte:
500*500*1500
Temperatuuruniformiteit:
± 5°C
Ovenstructuur:
horizontaal
Materiaal van het lichaam van de oven:
SS 304
HOGE TEMPERATUURZONE:
500*500*1500
Temperatuurverschil:
± 5°C
Kerncomponenten:
PLC, drukvat, pomp, cilinder
Type:
Inductieovens
Spanning:
380
Gewicht:
5 T
Grenstemperatuur:
2400℃
Verwarmingsmethode:
Verwarming van weerstandsgrafietstaaf
Controlemodel:
Handmatig of automatisch
Werksfeer:
Vacuüm- of inertgasbescherming
Laadcapaciteit:
375L
Kamergrootte:
500*500*1500
Temperatuuruniformiteit:
± 5°C
Ovenstructuur:
horizontaal
Materiaal van het lichaam van de oven:
SS 304
HOGE TEMPERATUURZONE:
500*500*1500
Temperatuurverschil:
± 5°C
Kerncomponenten:
PLC, drukvat, pomp, cilinder
Beschrijving
Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders
Zuivering van halfgeleiders met chemische combinatie en hoge temperatuur methode
Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 0 Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 1
Koolstofnanobuis zuiveringsoven

De gecombineerde zuiveringsbehandeling van de hoge temperatuur methode en de chemische methode.

Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 2 Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 3

Warmtebehandeling van batterijen-anodematerialen, poedermetallurgie, nanomaterialen, grafeen, nieuwe materialen en poedermaterialen in vacuümatmosfeer,en sintering en zuivering bij hoge temperatuur in een inerte atmosfeer.

Model TCL-45 TCL-128 TCL-375 TCL-720 TCL-1568 TCL-2560 TCL-5000 TCL-7200 TCL-11700
Hoogtemperatuurzone (mm) 300*300*500 400*400*800 500*500*1500 600*600*2000 700*700*3200 800*800*4000 1000*1000*5000 1200*1200*5000 1500*1500*5200
Laadcapaciteit 45 128 375 720 1568 2560 5000 7200 11700
Temperatuurverschil ± 5 ± 10 ±15
Grenstemperatuur 2400
Verwarmingsstand weerstand grafietstaaf verwarming
Controlemodel handmatige of automatische bediening
Werkklimaat in de oven Vacuüm- of inerte gasbescherming (micro-positieve druk)
Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 4 Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 5
  • Het kan worden gebruikt voor de zuivering van koolstofnanobuismateriaal door grafitisering bij hoge temperatuur en kan de zuivering van de methode bij hoge temperatuur in combinatie met de chemische methode realiseren.
  • Het kan continu voeden en ontladen bij hoge temperatuur realiseren, waardoor het energieverbruik wordt verminderd en de productiecyclus wordt verkort.
  • Gebruik weerstand of inductieverwarming, de temperatuur kan 2400°C bereiken.
  • De combinatie van hoge temperatuurmethode en chemische methode kan voldoen aan de vereisten van een zuivere behandeling.
  • Het efficiënte filtratiesysteem kan het stof en de bij het zuiveringsproces geproduceerde corrosieve gassen effectief opvangen.
  • Het kan continu voeden en ontladen bij hoge temperatuur realiseren, waardoor het energieverbruik wordt verminderd en de productiecyclus wordt verkort.
Vaak gestelde vragen
Bent u een fabriek of handelsonderneming?
Ja, we zijn China toonaangevende hoge temperatuur vacuümoven fabrikant met 14+ jaar ervaring, verleend met vele octrooi certificeringen in de binnenlandse markt.
Heb je een maatwerk of OEM-service?
Ja, we hebben een krachtig R&D team en high-tech apparatuur. We kunnen zowel reguliere modellen als aanpasbare ovens leveren volgens de eisen van de klant.
Wat zijn jouw voordelen?
  • Snelle reactie op uw vraag
  • Hoge kwaliteitscontrole
  • Een stabiele toeleveringsketen op de binnenlandse markt
  • Op tijd leveren
  • Uitstekende dienstverlening na verkoop, inclusief ingenieursverzending voor installatie en debugging
Contactgegevens
Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 6 Grafitiseringsoven met 375L laadcapaciteit 500x500x1500 Kamergrootte en ±5°C Temperatuuruniformiteit voor de zuivering van halfgeleiders 7
Stuur uw vraag
Stuur ons uw verzoek en wij zullen u zo snel mogelijk antwoorden.
Verzend